[实用新型]一种熔料密封装置有效

专利信息
申请号: 201420237276.7 申请日: 2014-05-09
公开(公告)号: CN203910867U 公开(公告)日: 2014-10-29
发明(设计)人: 吴伟力;汪峰;张玄 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 苏培华
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种熔料密封装置,包括工作平台及激光辐射构件,所述工作平台用以放置第一母基板以及位于第一母基板上方的第二母基板,第一、第二母基板之间设有熔料区域,所述熔料区域设有用以将第一、第二母基板粘合封闭在一起的熔料,所述激光辐射构件用以激光辐射所述第一、第二母基板之间熔料,所述第一母基板包括多个第一基板,所述第二母基板包括多个第二基板,所述熔料密封装置还包括位于工作平台和激光辐射构件之间的掩膜,所述掩膜位于第二母基板上方,所述掩膜与所述工作平台相互磁性吸引用以压紧所述第一、第二母基板之间的熔料。如此设置可改善第一、第二母基板之间的粘接,解决密封过程中产生的微裂纹,并起到保护玻璃基板的作用。
搜索关键词: 一种 密封 装置
【主权项】:
一种熔料密封装置,包括工作平台及激光辐射构件,所述工作平台用以放置第一母基板以及位于第一母基板上方的第二母基板,第一、第二母基板之间设有熔料区域,所述熔料区域设有用以将第一、第二母基板粘合封闭在一起的熔料,所述激光辐射构件用以激光辐射所述第一、第二母基板之间熔料,所述第一母基板包括多个第一基板,所述第二母基板包括多个第二基板,其特征在于:所述熔料密封装置还包括位于工作平台和激光辐射构件之间的掩膜,所述掩膜位于第二母基板上方,所述掩膜与所述工作平台相互磁性吸引用以压紧所述第一、第二母基板之间的熔料。
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