[实用新型]光源装置及投影仪有效
| 申请号： | 201420241523.0 | 申请日： | 2014-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN204030268U | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 清水铁雄 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | H01S5/40 | 分类号： | H01S5/40;H01S5/024;H01S5/022;G03B21/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型提供光源装置及投影仪，其减弱了发光效率的降低。本实用新型的光源装置(10)具备设置在基体(1)上的第1区域(E1)中的第1发光元件(11)、和设置在基体(1)上的第2区域(C1)中的第2发光元件(12、13)，其特征在于，第1发光元件(11)的发光特性的温度依赖性比第2发光元件(12、13)的发光特性的温度依赖性大，第1区域(E1)的散热性比第2区域(C1)的散热性高。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 装置 投影仪 | ||
【主权项】：
一种光源装置，其具备设置在基体上的第1区域中的第1发光元件、和设置在所述基体上的第2区域中的第2发光元件，其特征在于，所述第1发光元件的发光特性的温度依赖性比所述第2发光元件的发光特性的温度依赖性大，所述第1区域的散热性比所述第2区域的散热性高。
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