[实用新型]一种淋釉装置

摘要

本实用新型提供一种淋釉装置，包括淋釉机腔体、接釉槽及淋釉机机架，接釉槽为设置于淋釉机腔体下方的凹槽型结构，淋釉机腔体包括设固定腔体、活动腔体及设置于固定腔体和活动腔体两侧的挡板，固定腔和活动腔体为开口向内的凹槽型结构，淋釉机腔体上设置有用来调节出釉速度的偏心轴，该偏心轴套设于调节杆上，调节杆与调节装置相连接；固定腔体和活动腔体底部均设有淋釉刀。该淋釉装置结构简单，易于操作，节约耗材，同时极大的提高了淋釉机的工作效率及使用寿命。

主权项

一种淋釉装置，包括淋釉机腔体（10）、接釉槽（18）及淋釉机机架（15），其特征在于：所述淋釉机腔体（10）包括设固定腔体（25）、活动腔体（29）及设置于固定腔体（25）和活动腔体（29）两侧的挡板（50），所述挡板（50）间设置有用来调节出釉速度的调节杆（17），所述固定腔体（25）和活动腔体（29）为开口向内的凹槽型结构，所述淋调节杆（17）上设置有偏心轴（16），所述偏心轴（16）套设于调节杆（17）上，所述调节杆（17）与调节装置（12）相连接；固定腔体（25）和活动腔体（29）底部均设有淋釉刀（30），所述固定腔体（25）和活动腔体（29）间设有空腔形结构的控釉腔（27），所述固定腔体（25）顶部与活动腔体（29）相接触处为下端相内倾斜的三角形结构，所述活动腔体（29）上设置有用来与挡板（50）相连接的腔体调节孔（28），腔体调节孔（28）为圆形孔状结构，所述挡板（50）上设置有位置与所述腔体调节孔（28）相对应的腔体活动杆（53）和与控釉腔（27）相连通的挡板进釉孔（52）。