[实用新型]一种实现化合物半导体材料退火的设备有效
申请号: | 201420247285.4 | 申请日: | 2014-05-15 |
公开(公告)号: | CN203834053U | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | 程翠然;盛丽娜;李阳 | 申请(专利权)人: | 西安西凯化合物材料有限公司 |
主分类号: | C30B33/02 | 分类号: | C30B33/02 |
代理公司: | 西安吉盛专利代理有限责任公司 61108 | 代理人: | 邱志贤 |
地址: | 710072 陕西省西安市友谊*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种实现化合物半导体材料退火的设备,其特征是:至少包括:石英炉膛(1)、梯度温度加热器(2)、坩埚(3)、坩埚移动机构(4),坩埚移动机构(4)固定坩埚(3),坩埚移动机构(4)在石英炉膛(1)内活动固定,使坩埚(3)在石英炉膛(1)左右移动;石英炉膛(1)有梯度温度加热器(2)。该设备能根据晶体厚度,设定梯度温场的长度,从而快速、有效的改善半导体材料的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 实现 化合物 半导体材料 退火 设备 | ||
【主权项】:
一种实现化合物半导体材料退火的设备,其特征是:至少包括:石英炉膛(1)、梯度温度加热器(2)、坩埚(3)、坩埚移动机构(4),坩埚移动机构(4)固定坩埚(3),坩埚移动机构(4)在石英炉膛(1)内活动固定,使坩埚(3)在石英炉膛(1)左右移动;石英炉膛(1)有梯度温度加热器(2)。
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