[实用新型]电子束调节系统、电子束处理装置与系统有效
申请号: | 201420271741.9 | 申请日: | 2014-05-26 |
公开(公告)号: | CN203833984U | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | S·R.·兰开斯特-拉罗克;C·钱;植村贤介;P·哈雷罗 | 申请(专利权)人: | 苹果公司 |
主分类号: | C21D10/00 | 分类号: | C21D10/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 陈新 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本公开一般地涉及电子束调节系统、电子束处理装置与系统。一种用于电子束处理金属工件的表面部分的系统包括配置为发射具有第一能量分布的电子束的电子束发射器,以及设置在所述电子束发射器和所述金属工件之间并对由所述电子束发射器发射的电子束起作用以将所述第一能量分布改变为第二能量分布的机构,其中,所述第二能量分布被限制于将所述金属工件的表面部分保持在与预先选择的金属相相对应的温度范围内的电子束能量范围。本公开的一个实施例解决的一个技术问题是如何可靠地从金属工件的表面区域移除金属间化合物。 | ||
搜索关键词: | 电子束 调节 系统 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种用于电子束处理金属工件的表面部分的系统,其特征在于,所述系统包括:配置为发射具有第一能量分布的电子束的电子束发射器;以及设置在所述电子束发射器和所述金属工件之间并对由所述电子束发射器发射的电子束起作用以将所述第一能量分布改变为第二能量分布的机构,其中,所述第二能量分布被限制于将所述金属工件的表面部分保持在与预先选择的金属相相对应的温度范围内的电子束能量范围。
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