[实用新型]研磨头清洗装置和化学机械研磨设备有效
申请号: | 201420276003.3 | 申请日: | 2014-05-27 |
公开(公告)号: | CN203887686U | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
发明(设计)人: | 董兵超 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;B24B37/04 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种研磨头清洗装置和化学机械研磨设备,研磨头的上方设置有一挡板,其中,研磨头清洗装置包括研磨头清洗及硅片装卸单元和雾化器;研磨头清洗及硅片装卸单元具有多个第一喷嘴,研磨头清洗及硅片装卸单元通过多个第一喷嘴喷射出研磨头清洗液,研磨头清洗液的喷射方向对准研磨头;雾化器具有至少一个喷头,雾化器通过喷头喷射出雾气,雾气的喷射方向对准挡板。在本实用新型提供的研磨头清洗装置和化学机械研磨设备中,在研磨头清洗装置中增设一雾化器,雾化器能够在研磨头清洗过程中喷射出雾气以增加湿度,防止化学机械研磨设备的挡板上所残留的研磨液产生结晶现象,进而避免产生颗粒。 | ||
搜索关键词: | 研磨 清洗 装置 化学 机械 设备 | ||
【主权项】:
一种研磨头清洗装置,所述研磨头的上方设置有一挡板,其特征在于,所述研磨头清洗装置包括研磨头清洗及硅片装卸单元和雾化器;所述研磨头清洗及硅片装卸单元具有多个第一喷嘴,所述研磨头清洗及硅片装卸单元通过所述多个第一喷嘴喷射出研磨头清洗液,所述研磨头清洗液的喷射方向对准所述研磨头;所述雾化器具有至少一个喷头,所述雾化器通过所述喷头喷射出雾气,所述雾气的喷射方向对准所述挡板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420276003.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:激光合成光学装置
- 下一篇:一种紧凑防尘透镜驱动装置