[实用新型]光谱强度分析仪有效

专利信息
申请号: 201420280462.9 申请日: 2014-05-28
公开(公告)号: CN204085694U 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 储冬红;彭飞;郭睦庚 申请(专利权)人: 衢州普林千叶电子科技有限公司
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01N21/31
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 324000 浙江省衢州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 光谱强度分析仪,包括:光源装置,光束汇集装置,光谱筛选装置,光束调控装置,第一光电转换装置,第二光电转换装置,信号稳定装置,冷却装置,放大装置,输出装置,分析装置,信号记录与显示装置;通过光源装置提供检测所需的特殊波段范围和谱线的光束,借助于光束汇集装置实现光束传导路径的微调与控制,避免出现光束的过多散射造成光谱能量的路径损耗;采用光谱筛选装置进行外来杂光的筛选与排除,避免对检测分析造成干扰;通过光束调控装置实现光束微孔衍射的调节控制;通过第一光电转换装置形成高电位电势N1,通过铪镁合金作为高电位电极,实现具微电流的传导。
搜索关键词: 光谱 强度 分析
【主权项】:
光谱强度分析仪,包括:光源装置(1),光束汇集装置(2),光谱筛选装置(3),光束调控装置(4),第一光电转换装置(7),第二光电转换装置(8),信号稳定装置(9),冷却装置(10),放大装置(11),输出装置(12),分析装置(13),信号记录与显示装置(14);其中,通过光源装置(1)提供检测所需的特殊波段范围和谱线的光束,然后借助于光束汇集装置(2)实现光束传导路径的微调与控制,避免出现光束的过多散射造成光谱能量的路径损耗;再采用光谱筛选装置(3)进行外来杂光的筛选与排除,避免对检测分析造成干扰;然后通过光束调控装置(4)实现光束微孔衍射的调节控制;然后通过第一光电转换装置(7)形成高电位电势N1,通过铪镁合金作为高电位电极,实现具微电流的传导;接着在第二光电转换装置(8)实现高电位电势N2的形成,通过钽铟合金作为高电位电极,实现具微电流的传导; 其特征在于,所述的光束汇集装置(2)含有反射薄膜透镜,该透镜表面镀有厚度为0.8um的薄膜;所述的光谱筛选装置(3)含有双膜透镜,该透镜正反两个表面覆盖有厚度为0.5um的透光薄膜;所述的光束调控装置(4)含有八棱透镜,半凹透镜,以及双狭缝衍射器,三者的排列方式为:沿着光束主轴的传播方向,半凹透镜在前,双狭缝衍射器居中,八棱透镜位于最后,三者串联直线排列;所述的第一光电转换装置(7)含有高电位电极,电极材料为铪镁合金;所述的第二光电转换装置(8)含有高电位电极,电极材料为钽铟合金。 
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