[实用新型]一种生长在金属铝衬底上的AlN薄膜有效
申请号: | 201420289529.5 | 申请日: | 2014-05-30 |
公开(公告)号: | CN204257684U | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 李国强 | 申请(专利权)人: | 广州市众拓光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/02 | 分类号: | H01L33/02;H01L31/0248 |
代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 汤喜友 |
地址: | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种生长在金属铝衬底上的AlN薄膜,其包括金属Al衬底、生长在金属Al衬底上的AlN氮化层以及生长在AlN氮化层上的AlN薄膜;所述金属Al衬底以(111)面偏(100)方向0.5~1°为外延面,晶体外延取向关系为AlN(0001)//Al(111)。本实用新型所述的生长在金属铝衬底上的AlN薄膜具有质量高、成本低等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 生长 金属 衬底 aln 薄膜 | ||
【主权项】:
一种生长在金属铝衬底上的AlN薄膜,其特征在于:其包括金属Al衬底、生长在金属Al衬底上的AlN氮化层以及生长在AlN氮化层上的AlN薄膜;所述金属Al衬底以111面偏100面方向0.5~1°为外延面,晶体外延取向关系为AlN的0001面//Al的111面。
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