[实用新型]一种研磨垫调节器

摘要

本实用新型公开的一种研磨垫调节器，应用于化学机械研磨工艺中，该调节器包括：底板，底板内设有第一调节装置和第二调节装置；第一涡卷结构，第一涡卷结构设置于底板的一端，并与第一调节装置相连接以调节该第一涡卷结构的升降状态；第二涡卷结构，第二涡卷结构套设于第一涡卷结构内，且第二涡卷结构与第二调节装置相连接以调节该第二涡卷结构的升降状态；其中，第一涡卷结构为金刚石盘，第二涡卷结构为沟槽清除刷，且沟槽清除刷表面具有若干突起。在进行化学机械研磨工艺时，该研磨垫调节器可以有效的修复沟槽并清除钻石颗粒和其它残留物，从而有效的避免了晶圆被刮伤现象的发生。

主权项

一种研磨垫调节器，应用于化学机械研磨工艺中，其特征在于，所述调节器包括：一底板，所述底板内设有第一调节装置和第二调节装置；第一涡卷结构，所述第一涡卷结构设置于所述底板的一端，并与所述第一调节装置相连接以调节该第一涡卷结构的升降状态；第二涡卷结构，所述第二涡卷结构套设于所述第一涡卷结构内，且所述第二涡卷结构与所述第二调节装置相连接以调节该第二涡卷结构的升降状态；其中，所述第一涡卷结构为金刚石盘，所述第二涡卷结构为沟槽清除刷，且所述沟槽清除刷表面具有若干突起。