[实用新型]一种瞬态电压抑制二极管有效
申请号: | 201420303510.1 | 申请日: | 2014-06-09 |
公开(公告)号: | CN203941908U | 公开(公告)日: | 2014-11-12 |
发明(设计)人: | 陈伟元 | 申请(专利权)人: | 苏州市职业大学 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L29/06 |
代理公司: | 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 | 代理人: | 刘艳春 |
地址: | 江苏省苏州市吴中区国际*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种瞬态电压抑制二极管,包括上台体、与上台体底面面接触的中台体和与中台体底面面接触的下台体,上台体和与下台体各自的外侧面均为斜面,此上台体包括第一轻掺杂N型区、第一重掺杂N型区,所述中台体从上至下依次为第一轻掺杂P型区、重掺杂P型区和第二轻掺杂P型区,此下台体包括第二轻掺杂N型区、第二重掺杂N型区;第一重掺杂N型区、第一轻掺杂N型区接触并位于其正上方,所述第二重掺杂N型区、第二轻掺杂N型区接触并位于其正下方。本实用新型降低漏电流中来自表面的漏电流,大大降低整个器件的反向漏电流,从而进一步降低了功耗,避免了器件的局部温升,提高了电路稳定性和可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 瞬态 电压 抑制 二极管 | ||
【主权项】:
一种瞬态电压抑制二极管,其特征在于:包括上台体(1)、与上台体(1)底面面接触的中台体(2)和与中台体(2)底面面接触的下台体(13),所述上台体(1)和与下台体(13)各自的外侧面均为斜面,此上台体(1)包括第一轻掺杂N型区(3)、第一重掺杂N型区(4),所述中台体(2)从上至下依次为第一轻掺杂P型区(14)、重掺杂P型区(15)和第二轻掺杂P型区(16),此下台体(13)包括第二轻掺杂N型区(5)、第二重掺杂N型区(6);所述第一重掺杂N型区(4)、第一轻掺杂N型区(3)接触并位于其正上方,所述第二重掺杂N型区(6)、第二轻掺杂N型区(5)接触并位于其正下方;所述中台体(2)中第一轻掺杂P型区(14)与上台体(1)的第一轻掺杂N型区(3)接触形成第一PN结接触面,所述中台体(2)中第二轻掺杂P型区(16)与下台体(13)的第二轻掺杂N型区(5)接触形成第二PN结接触面;一第一钝化保护层(7)覆盖于第一重掺杂N型区(4)上表面的边缘区域和第一重掺杂N型区(4)的侧表面,一第二钝化保护层(8)覆盖于第二重掺杂N型区(6)下表面的边缘区域和第二重掺杂N型区(6)的侧表面,上金属层(9)覆盖于第一重掺杂N型区(4)的中央区域,下金属层(10)覆盖于第二重掺杂N型区(6)的中央区域;所述第一轻掺杂N型区(3)与第一重掺杂N型区(4)接触的上部区域且位于第一轻掺杂N型区(3)边缘的四周区域具有第一中掺杂N型区(11),此第一中掺杂N型区(11)的上表面与第一重掺杂N型区(4)的下表面接触,此第一中掺杂N型区(11)的外侧面延伸至上台体(1)外侧面,所述第一轻掺杂P型区(14)与重掺杂P型区(15)接触的下部区域且位于第一轻掺杂P型区(14)边缘的四周区域具有第一中掺杂P型区(12),此第一中掺杂P型区(12)的下表面与重掺杂P型区(15)的上表面接触,此第一中掺杂P型区(12)的外侧面延伸至中台体(2)外侧面;所述第二轻掺杂N型区(5)与第二重掺杂N型区(6)接触的下部区域且位于第二轻掺杂N型区(5)边缘的四周区域具有第二中掺杂N型区(17),此第二中掺杂N型区(17)的下表面与第二重掺杂N型区(6)的上表面接触,此第二中掺杂N型区(17)的外侧面延伸至下台体(13)外侧面,所述第二轻掺杂P型区(16)与重掺杂P型区(15)接触的上部区域且位于第二轻掺杂P型区(16)边缘的四周区域具有第二中掺杂P型区(18),此第二中掺杂P型区(18)的上表面与重掺杂P型区(15)的下表面接触,此第二中掺杂P型区(18)的外侧面延伸至中台体(2)外侧面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州市职业大学,未经苏州市职业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420303510.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种耐高压半导体器件
- 下一篇:图像传感器封装结构
- 同类专利
- 专利分类