[实用新型]一种瞬态电压抑制二极管有效

专利信息
申请号: 201420303510.1 申请日: 2014-06-09
公开(公告)号: CN203941908U 公开(公告)日: 2014-11-12
发明(设计)人: 陈伟元 申请(专利权)人: 苏州市职业大学
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06
代理公司: 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 代理人: 刘艳春
地址: 江苏省苏州市吴中区国际*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及一种瞬态电压抑制二极管,包括上台体、与上台体底面面接触的中台体和与中台体底面面接触的下台体,上台体和与下台体各自的外侧面均为斜面,此上台体包括第一轻掺杂N型区、第一重掺杂N型区,所述中台体从上至下依次为第一轻掺杂P型区、重掺杂P型区和第二轻掺杂P型区,此下台体包括第二轻掺杂N型区、第二重掺杂N型区;第一重掺杂N型区、第一轻掺杂N型区接触并位于其正上方,所述第二重掺杂N型区、第二轻掺杂N型区接触并位于其正下方。本实用新型降低漏电流中来自表面的漏电流,大大降低整个器件的反向漏电流,从而进一步降低了功耗,避免了器件的局部温升,提高了电路稳定性和可靠性。
搜索关键词: 一种 瞬态 电压 抑制 二极管
【主权项】:
一种瞬态电压抑制二极管,其特征在于:包括上台体(1)、与上台体(1)底面面接触的中台体(2)和与中台体(2)底面面接触的下台体(13),所述上台体(1)和与下台体(13)各自的外侧面均为斜面,此上台体(1)包括第一轻掺杂N型区(3)、第一重掺杂N型区(4),所述中台体(2)从上至下依次为第一轻掺杂P型区(14)、重掺杂P型区(15)和第二轻掺杂P型区(16),此下台体(13)包括第二轻掺杂N型区(5)、第二重掺杂N型区(6);所述第一重掺杂N型区(4)、第一轻掺杂N型区(3)接触并位于其正上方,所述第二重掺杂N型区(6)、第二轻掺杂N型区(5)接触并位于其正下方;所述中台体(2)中第一轻掺杂P型区(14)与上台体(1)的第一轻掺杂N型区(3)接触形成第一PN结接触面,所述中台体(2)中第二轻掺杂P型区(16)与下台体(13)的第二轻掺杂N型区(5)接触形成第二PN结接触面;一第一钝化保护层(7)覆盖于第一重掺杂N型区(4)上表面的边缘区域和第一重掺杂N型区(4)的侧表面,一第二钝化保护层(8)覆盖于第二重掺杂N型区(6)下表面的边缘区域和第二重掺杂N型区(6)的侧表面,上金属层(9)覆盖于第一重掺杂N型区(4)的中央区域,下金属层(10)覆盖于第二重掺杂N型区(6)的中央区域;所述第一轻掺杂N型区(3)与第一重掺杂N型区(4)接触的上部区域且位于第一轻掺杂N型区(3)边缘的四周区域具有第一中掺杂N型区(11),此第一中掺杂N型区(11)的上表面与第一重掺杂N型区(4)的下表面接触,此第一中掺杂N型区(11)的外侧面延伸至上台体(1)外侧面,所述第一轻掺杂P型区(14)与重掺杂P型区(15)接触的下部区域且位于第一轻掺杂P型区(14)边缘的四周区域具有第一中掺杂P型区(12),此第一中掺杂P型区(12)的下表面与重掺杂P型区(15)的上表面接触,此第一中掺杂P型区(12)的外侧面延伸至中台体(2)外侧面;所述第二轻掺杂N型区(5)与第二重掺杂N型区(6)接触的下部区域且位于第二轻掺杂N型区(5)边缘的四周区域具有第二中掺杂N型区(17),此第二中掺杂N型区(17)的下表面与第二重掺杂N型区(6)的上表面接触,此第二中掺杂N型区(17)的外侧面延伸至下台体(13)外侧面,所述第二轻掺杂P型区(16)与重掺杂P型区(15)接触的上部区域且位于第二轻掺杂P型区(16)边缘的四周区域具有第二中掺杂P型区(18),此第二中掺杂P型区(18)的上表面与重掺杂P型区(15)的下表面接触,此第二中掺杂P型区(18)的外侧面延伸至中台体(2)外侧面。
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