[实用新型]一种真空镀膜设备有效
| 申请号： | 201420312955.6 | 申请日： | 2014-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN204022935U | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 文洁;何自坚 | 申请（专利权）人： | 深圳市大富精工有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/12;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空镀膜设备以及真空镀膜的方法，该真空镀膜设备包括气相沉积室、支架以及导气柱，支架设置于气相沉积室内且用于放置待镀膜工件，支架包括支架柱，导气柱呈中空状且在导气柱的侧壁上设置有多个第一通气孔，支架柱呈中空状且支架柱的侧壁上设置有多个第二通气孔，导气柱从所述支架柱的一端插入支架柱，支架柱嵌套设置于导气柱外侧且能够绕所述导气柱转动，引入的高分子材料裂解气体经第一通气孔和第二通气孔均匀扩散并沉积于待镀膜工件上。通过这样的方式，能够有效提高真空纳米镀膜的效率以及镀膜的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜设备，其特征在于，所述真空镀膜设备包括气相沉积室、支架以及导气柱，所述支架设置于所述气相沉积室内且用于放置待镀膜工件，所述支架包括支架柱，所述导气柱呈中空状且在所述导气柱的侧壁上设置有多个第一通气孔，所述支架柱呈中空状且所述支架柱的侧壁上设置有多个第二通气孔，所述导气柱从所述支架柱的一端插入所述支架柱，所述支架柱嵌套设置于所述导气柱外侧且能够绕所述导气柱转动，引入的高分子材料裂解气体经所述第一通气孔和所述第二通气孔均匀扩散并沉积于所述待镀膜工件上。
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