[实用新型]一种基于光流控的光束扫描型动态光学微加工平台有效
| 申请号： | 201420316129.9 | 申请日： | 2014-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN204028561U | 公开（公告）日： | 2014-12-17 |
| 发明（设计）人： | 南学芳;郁敏;杨杰;高秀敏 | 申请（专利权）人： | 高秀敏 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/09 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200433 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一基于光流控的光束扫描型动态光学微加工平台，包括光源，在所述光源出射光束行进方向上依次设置有光束整形器件、光束扫描器以及光流体模块。本实用新型的一种基于光流控的光束扫描型动态光学微加工平台，具有过程步骤少工艺简单，制作装置简单成本低，可以加工不同形状微纳器件，并能够进行不同微纳器件动态实时调整，便于微纳器件进行后续自组装处理等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光流控 光束 扫描 动态 光学 加工 平台 | ||
【主权项】：
一种基于光流控的光束扫描型动态光学微加工平台，包括光源，其特征在于，在所述光源出射光束行进方向上依次设置有光束整形器件、光束扫描器以及光流体模块，所述的光流体模块为两端开口结构，包括流道边界、位于所述光流体模块两端的流体入口和流体出口、位于流道边界内的流体光刻胶。
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