[实用新型]多区域气体流量控制装置有效
| 申请号： | 201420324040.7 | 申请日： | 2014-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN203909634U | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | 钟尚骅 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | G05D7/06 | 分类号： | G05D7/06 |
| 代理公司： | 上海唯源专利代理有限公司 31229 | 代理人： | 曾耀先 |
| 地址： | 201508 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种多区域气体流量控制装置，应用于半导体设备中，所述半导体设备包括腔体，所述腔体内置有上电极和与所述上电极相对的下电极；所述多区域气体流量控制装置包括：流量控制器、管道、多个输入管，所述流量控制器与所述管道连接，所述管道与多个所述输入管连接，所述输入管穿过所述腔体后作用于所述上电极，利用所述流量控制器控制流经所述管道和所述输入管的气体的流量。本实用新型多区域气体流量控制装置有效调整气体分布的均匀性，防止发生上电极下垂的现象，使上下电极的间隙保持一致。 | ||
| 搜索关键词： | 区域 气体 流量 控制 装置 | ||
【主权项】：
一种多区域气体流量控制装置，应用于半导体设备中，所述半导体设备包括腔体，所述腔体内置有上电极和与所述上电极相对的下电极；其特征在于，所述多区域气体流量控制装置包括：流量控制器、管道、多个输入管，所述流量控制器与所述管道连接，所述管道与多个所述输入管连接，所述输入管穿过所述腔体后作用于所述上电极，利用所述流量控制器控制流经所述管道和所述输入管的气体的流量。
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