[实用新型]一种激光退火设备有效
申请号: | 201420334401.6 | 申请日: | 2014-06-20 |
公开(公告)号: | CN203900744U | 公开(公告)日: | 2014-10-29 |
发明(设计)人: | 钟尚骅 | 申请(专利权)人: | 上海和辉光电有限公司 |
主分类号: | B23K26/60 | 分类号: | B23K26/60;H01L21/268 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 王芝艳;邹宗亮 |
地址: | 201500 上海市金山区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供一种激光退火设备,用于对待处理层进行激光退火处理,所述激光退火设备包括:移动工作台,用于装载具有所述待处理层的基板;以及过渡腔室,设置在所述移动工作台的上方,用于向所述待处理层供给惰性气体,其中所述惰性气体的温度为200~500℃。本实用新型的激光退火设备通过向待处理层供给加热后的惰性气体,从而在退火处理时对待处理层进行预加热处理,由此达成更好的结晶效果,同时更容易地对预加热温度进行调节,此外还可提高激光光源的使用寿命并降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 退火 设备 | ||
【主权项】:
一种激光退火设备,用于对待处理层进行激光退火处理,其特征在于,该激光退火设备包括:移动工作台,用于装载具有所述待处理层的基板;以及过渡腔室,设置在所述移动工作台的上方,用于向所述待处理层供给惰性气体,其中所述惰性气体的温度为200~500℃。
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