[实用新型]MEMS 压力传感器和半导体结构有效
申请号: | 201420348337.7 | 申请日: | 2014-06-26 |
公开(公告)号: | CN203940938U | 公开(公告)日: | 2014-11-12 |
发明(设计)人: | 伏广才;张先明 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | G01L1/14 | 分类号: | G01L1/14;B81B7/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 100176 北京市大兴*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种MEMS压力传感器和半导体结构,包含衬底结构、氧化物层、下电极、上电极和空腔,在所述MEMS压力传感器中,所述上电极为包含第一薄膜层TiN膜、第二薄膜层W膜、第三薄膜层Mo膜的多层薄膜结构,大大增大了上电极和下电极的粘附力,使得所述MEMS压力传感器在使用过程中,上电极和下电极的接触面不会发生剥离,进而改善了所述MEMS压力传感器的性能。 | ||
搜索关键词: | mems 压力传感器 半导体 结构 | ||
【主权项】:
一种MEMS压力传感器,所述MEMS压力传感器形成在衬底结构上,其特征在于,所述MEMS压力传感器至少包含:下电极,位于所述衬底结构表面;氧化物层,覆盖于所述衬底结构和所述下电极表面;上电极,位于所述氧化物层的上表面;所述上电极为多层薄膜结构,包含第一薄膜层、第二薄膜层和第三薄膜层,所述第一薄膜层位于所述氧化物层上,所述第二薄膜层位于所述第一薄膜层上,所述第三薄膜层位于所述第二薄膜层上;其中,所述第一薄膜层为TiN膜,第二薄膜层为W膜,第三薄膜层为Mo膜;空腔,位于所述上电极和氧化物层之间,且位于所述下电极的上方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420348337.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:新型电火花检测用钳式探头
- 下一篇:一种温度测控系统