[实用新型]MEMS 压力传感器和半导体结构有效

专利信息
申请号: 201420348337.7 申请日: 2014-06-26
公开(公告)号: CN203940938U 公开(公告)日: 2014-11-12
发明(设计)人: 伏广才;张先明 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G01L1/14 分类号: G01L1/14;B81B7/00
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 100176 北京市大兴*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供一种MEMS压力传感器和半导体结构,包含衬底结构、氧化物层、下电极、上电极和空腔,在所述MEMS压力传感器中,所述上电极为包含第一薄膜层TiN膜、第二薄膜层W膜、第三薄膜层Mo膜的多层薄膜结构,大大增大了上电极和下电极的粘附力,使得所述MEMS压力传感器在使用过程中,上电极和下电极的接触面不会发生剥离,进而改善了所述MEMS压力传感器的性能。
搜索关键词: mems 压力传感器 半导体 结构
【主权项】:
一种MEMS压力传感器,所述MEMS压力传感器形成在衬底结构上,其特征在于,所述MEMS压力传感器至少包含:下电极,位于所述衬底结构表面;氧化物层,覆盖于所述衬底结构和所述下电极表面;上电极,位于所述氧化物层的上表面;所述上电极为多层薄膜结构,包含第一薄膜层、第二薄膜层和第三薄膜层,所述第一薄膜层位于所述氧化物层上,所述第二薄膜层位于所述第一薄膜层上,所述第三薄膜层位于所述第二薄膜层上;其中,所述第一薄膜层为TiN膜,第二薄膜层为W膜,第三薄膜层为Mo膜;空腔,位于所述上电极和氧化物层之间,且位于所述下电极的上方。
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