[实用新型]一种真空灭弧室底涂工装有效

专利信息
申请号: 201420360774.0 申请日: 2014-06-30
公开(公告)号: CN204088124U 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 刘随军;王茂玉;张国跃;甘新华;郭国领;李競 申请(专利权)人: 天津平高智能电气有限公司
主分类号: H01H11/00 分类号: H01H11/00;H01H33/664
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人: 赵敏
地址: 300304 天津市东*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型公开了一种真空灭弧室底涂工装,包括底座,底座上转动设置有切换真空灭弧室操作工位的水平旋转的公转转盘,公转转盘上端设置有至少两个沿公转转盘周向均匀分布的定位机构单元,每个定位机构单元包括用于承托真空灭弧室并对其定位的自转转盘和用于对真空灭弧室进行限位的限位升降架,自转转盘包括转动设置在公转转盘上端的托盘、设置在托盘上的定位结构和驱动托盘自转的驱动机构,限位升降架固定设置在公转转盘上端,自转转盘和限位升降架共同作用使真空灭弧室的重心在自转转盘带动其自转时始终与其自转轴线重合。本实用新型的真空灭弧室底涂工装在保证了底涂涂覆均匀度的同时又能完成底涂和晾干的连续操作,省时省力,提高生产效率。
搜索关键词: 一种 真空 灭弧室底涂 工装
【主权项】:
一种真空灭弧室底涂工装,其特征在于:包括底座,底座上转动设置有用于切换真空灭弧室操作工位的水平旋转的公转转盘,所述的公转转盘上端设置有至少两个沿公转转盘周向均匀分布的定位机构单元,每个定位机构单元包括用于承托真空灭弧室并对其定位的自转转盘和用于对真空灭弧室进行限位的限位升降架,所述的自转转盘包括转动设置在公转转盘上端的用于承托真空灭弧室的托盘、设置在托盘上用于对真空灭弧室定位的定位结构和驱动托盘自转的驱动机构,所述的限位升降架固定设置在公转转盘上端,所述的自转转盘和限位升降架共同作用使真空灭弧室的重心在自转转盘带动其自转时始终与其自转轴线重合。
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