[实用新型]研磨垫及采用该研磨垫的研磨装置有效
| 申请号： | 201420397395.9 | 申请日： | 2014-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN203956708U | 公开（公告）日： | 2014-11-26 |
| 发明（设计）人： | 陈枫 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种研磨垫，至少包括：主研磨区及均匀环设于所述主研磨区周围的至少两个边缘研磨区；所述主研磨区与各边缘研磨区之间通过一圆环形沟槽隔离；相邻边缘研磨区之间具有间隙。本实用新型还提供一种采用上述研磨垫的研磨装置，包括研磨平台、设置于所述研磨平台上方的研磨头及用于向所述主研磨区供应液体的第一研磨液供应装置；所述研磨垫铺设于所述研磨平台表面；所述研磨装置还包括用于向所述边缘研磨区供应液体的第二研磨液供应装置。本实用新型既可以对晶圆整体部分进行研磨，也可以单独对晶圆边缘部分进行研磨，从而提高研磨均匀性，解决晶圆边缘的残留物问题，提高生产良率。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 采用 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，其特征在于，至少包括：主研磨区及均匀环设于所述主研磨区周围的至少两个边缘研磨区；所述主研磨区与各边缘研磨区之间通过一圆环形沟槽隔离；相邻边缘研磨区之间具有间隙。
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