[实用新型]用于光谱仪的拼接密封真空室有效

专利信息
申请号: 201420408057.0 申请日: 2014-07-23
公开(公告)号: CN204043790U 公开(公告)日: 2014-12-24
发明(设计)人: 沈云峰;沈永水;茹伟民 申请(专利权)人: 郎溪杰博电器科技有限公司
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 郭俊玲
地址: 242100 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种用于光谱仪的拼接密封真空室,包括真空室本体和上盖,在真空室本体的四周侧壁与上盖相对的面中间设置有凹槽并在凹槽内设置有密封条,在上盖的四周侧壁与真空室本体相对的面中间也设置有凹槽并在凹槽内设置有密封条,真空室本体的四周侧壁均为两块侧板拼接而成,上盖的四周侧壁也分别为两块侧板拼接而成。本实用新型提的用于光谱仪的拼接密封真空室,真空室本体的四周侧壁和上盖的四周侧壁均为两块侧板拼接而成,并在缝隙之间设置有密封条,这样设计的真空室密封性好。
搜索关键词: 用于 光谱仪 拼接 密封 真空
【主权项】:
一种用于光谱仪的拼接密封真空室,其特征在于:包括真空室本体(1)和上盖(2),在真空室本体(1)的四周侧壁与上盖(2)相对的面中间设置有凹槽(3)并在凹槽(3)内设置有密封条(4),在上盖(2)的四周侧壁与真空室本体(1)相对的面中间也设置有凹槽(3)并在凹槽(3)内设置有密封条(4),真空室本体(1)的四周侧壁均为两块侧板拼接而成,上盖(2)的四周侧壁也分别为两块侧板拼接而成。
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