[实用新型]一种离子镀动态磁控弧源装置有效
申请号: | 201420467186.7 | 申请日: | 2014-08-19 |
公开(公告)号: | CN204097557U | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
发明(设计)人: | 高斌;朗文昌;朱景华 | 申请(专利权)人: | 温州职业技术学院 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 温州瓯越专利代理有限公司 33211 | 代理人: | 李友福 |
地址: | 325000 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种离子镀动态磁控弧源装置,包括弧源装置本体,所述的弧源装置本体包括有可与设备安装连接的安装法兰盘、靶材、靶材底座、水冷法兰盘、引弧装置和动态磁场控制发生装置,所述的动态磁场控制发生装置包括有电机、连杆、电机固定盘和永久磁铁装置,电机固定盘与水冷法兰盘通过长螺栓固定,电机装于电机固定盘上,所述连杆的一端与电机输出轴同轴固定,所述的永久磁铁装置对应装于连杆的另一端上,所述的永久磁铁装置由圆盘形磁轭及装于磁轭上的永磁体构成,且所述的圆盘形磁轭与连杆呈偏心设置,采用上述结构,本实用新型提供了一种弧斑控制模式更丰富、冷却管道布局更合理的离子镀动态磁控弧源装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 离子镀 动态 磁控弧源 装置 | ||
【主权项】:
一种离子镀动态磁控弧源装置,包括弧源装置本体,所述的弧源装置本体包括有可与设备安装连接的安装法兰盘、靶材、靶材底座、水冷法兰盘、引弧装置,所述的靶材底座穿设于安装法兰盘内,靶材装于靶材底座的前端,水冷法兰盘装于靶材底座的后端,且所述水冷法兰盘与安装法兰盘相固定,所述靶材底座的后端面上还开设有一容置凹槽,所述的引弧装置包括有气缸、引弧针固定杆和引弧针,引弧针固定杆上设有可与电源正极相接的正极接线端,水冷法兰盘上设有可与电源负极相接的负极接线端,气缸装于安装法兰盘上,所述引弧针固定杆的一端与气缸连接,所述的引弧针装于引弧针固定杆的另一端上并对应位于靠近靶材处,其特征在于:所述的弧源装置本体还包括有动态磁场控制发生装置,所述的动态磁场控制发生装置包括有电机、连杆、电机固定盘和永久磁铁装置,电机固定盘与水冷法兰盘通过长螺栓固定,电机装于电机固定盘上,所述连杆的一端与电机输出轴同轴固定,所述的永久磁铁装置对应装于连杆的另一端上,所述的永久磁铁装置由圆盘形磁轭及装于磁轭上的永磁体构成,且所述的圆盘形磁轭与连杆呈偏心设置,所述的永久磁铁装置外还包覆有一磁铁外罩,磁铁外罩固装于水冷法兰盘上,并对应位于所述靶材底座的容置凹槽内,且所述磁铁外罩外表面和容置凹槽内表面之间形成一个可供冷却水流过的通道,所述的水冷法兰盘上对应设有与所述通道相连通的冷却水进入管道和冷却水流出管道。
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