[实用新型]一种真空吸笔有效
| 申请号： | 201420497000.2 | 申请日： | 2014-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN204011389U | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 刘孜谦;谭孝林 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种真空吸笔，所述真空吸笔至少包括真空装置、笔杆、第一吸盘和第二吸盘。所述真空吸笔设有至少两个吸盘，即使有一个所述吸盘吸附在了晶圆背面的不平整区域而导致所述吸盘吸力的减小，其他吸盘仍然可以提供足够的吸力牢牢吸附住所述晶圆，即使所述所有吸盘均吸附在了晶圆背面的不平整区域而导致所述吸盘的吸力减小，但所述吸盘的吸力叠加的总和仍大于正常条件下单个吸盘的吸力，大大降低了所述晶圆从所述真空吸笔上掉落而被摔碎的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 | ||
【主权项】：
一种真空吸笔，其特征在于，所述真空吸笔包括：真空装置、笔杆、第一吸盘和第二吸盘；所述笔杆的一端设有第一分支部和第二分支部；所述第一吸盘与所述第一分支部相连接，所述第二吸盘与所述第二分支部相连接；所述第一吸盘与所述第二吸盘的一面为吸附面，所述第一吸盘的吸附面与所述第二吸盘的吸附面位于同一平面上；所述第一吸盘与所述第二吸盘均连接有独立的气流通道，所述各气流通道藉由所述笔杆与所述真空装置相连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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