[实用新型]一种用于调整半导体设备的喷嘴位置的装置有效

专利信息
申请号: 201420511582.5 申请日: 2014-09-05
公开(公告)号: CN204029765U 公开(公告)日: 2014-12-17
发明(设计)人: 詹云 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;G03F7/16
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 杨立
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型涉及半导体制造领域,特别涉及一种用于调整半导体设备的喷嘴位置的装置。包括用于夹持喷嘴的夹具和用于发射激光光束的激光头,所述激光头一端为激光发射端,所述激光发射端发出的激光光束与所述喷嘴喷吐方向相同;所述激光头另一端与所述夹具相连接,所述夹具与所述激光头同轴设置;所述夹具包括容纳所述喷嘴的夹头和设置在夹头上用于调整所述喷嘴位置的固定螺丝。本实用新型的装置为化学品喷嘴的定位提供直观、准确的参照,在喷嘴喷涂过程中,不再需要通过目测或者在晶圆上进行反复喷涂试验来验证喷嘴位置,操作简单,不仅可以大幅提高工作效率和喷涂质量,而且可以节约化学品成本。
搜索关键词: 一种 用于 调整 半导体设备 喷嘴 位置 装置
【主权项】:
一种用于调整半导体设备的喷嘴位置的装置,其特征在于:包括用于夹持喷嘴的夹具和用于发射激光光束的激光头,所述激光头一端为激光发射端,所述激光发射端发出的激光光束与所述喷嘴喷吐方向相同;所述激光头另一端与所述夹具相连接,所述夹具与所述激光头同轴设置;所述夹具包括容纳所述喷嘴的夹头和设置在夹头上用于调整所述喷嘴位置的固定螺丝。
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