[实用新型]一种屋面瓦有效
申请号: | 201420529683.5 | 申请日: | 2014-09-15 |
公开(公告)号: | CN204199546U | 公开(公告)日: | 2015-03-11 |
发明(设计)人: | 吴在祥 | 申请(专利权)人: | 吴在祥 |
主分类号: | E04D1/30 | 分类号: | E04D1/30;E04D13/04;E04D13/064 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 范建良 |
地址: | 300300 天津市南开*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种屋面瓦,包括瓦片本体,其特征在于:所述瓦片本体的瓦面上还设有高出上表面的定位基准台,瓦片本体的上边缘设有支撑檐,定位基准台的上边缘与支撑檐内边缘形成排水通道,排水通道的两端分别沿纵向中线方向向瓦片本体的下边缘设有导水槽,所述导水槽的下端距离定位基准台的下边缘一定距离;所述的定位基准台的下边缘沿中心线方向向瓦片本体的下边缘设有分割槽;所述排水通道内设有阻隔台;阻隔台将排水通道分为两个部分,但其阻隔台的上部互通。本实用新型既能解决漏水问题,避免了倒吸现象,又能兼顾铺设完成后,整体效果美观,平整度较高等问题,此外由于定位基准台的设计,提高铺设的质量和铺设效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 屋面 | ||
【主权项】:
一种屋面瓦,包括瓦片本体,所述瓦片本体的下表面为铺设面,所述铺设面为平面结构;瓦片本体的上表面为瓦面,其上设有导水槽和安装孔;其特征在于:所述瓦片本体的瓦面上还设有高出上表面的定位基准台,所述定位基准台的形状为长方形结构,定位基准台位于瓦片本体中线靠上位置;瓦片本体的上边缘设有支撑檐,所述支撑檐分为三段,其中中间段的上表面与定位基准台的上表面位于同一平面上,且宽度等于定位基准台的宽度,两侧段的上表面与瓦片本体的上表面位于同一平面上;定位基准台的上边缘与支撑檐内边缘形成排水通道,排水通道从纵向中线起向两侧延伸至瓦片本体的侧支撑檐上,所述侧支撑檐的上表面与瓦片本体的上表面位于同一平面上,排水通道的两端分别沿纵向中线方向向瓦片本体的下边缘设有导水槽,所述导水槽的下端距离定位基准台的下边缘一定距离;所述导水槽的下端部设有导水坡面;所述安装孔位于定位基准台的两侧;所述的定位基准台的下边缘沿中心线方向向瓦片本体的下边缘设有分割槽。
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