[实用新型]一种飞点形成装置有效
申请号: | 201420542180.1 | 申请日: | 2014-09-19 |
公开(公告)号: | CN204116249U | 公开(公告)日: | 2015-01-21 |
发明(设计)人: | 王彦华 | 申请(专利权)人: | 北京君和信达科技有限公司 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;G01V5/00 |
代理公司: | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人: | 黄泽雄;郭丽祥 |
地址: | 100011 北京市西城区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种飞点形成装置,包括辐射源和屏蔽体,屏蔽体的侧壁上具有至少两对螺旋槽,每个螺旋槽具有预定斜率;第一入射槽与第二入射槽相邻,第一入射槽的首端高于第二入射槽的首端,第一入射槽的末端高于第二入射槽的末端,第一入射槽的末端与第二入射槽的首端相隔预定距离,第一入射槽的末端不高于第二入射槽的首端;屏蔽体的第一轴截面与第一入射槽的末端相交,第二轴截面与第二入射槽的首端相交,第一轴截面与第二轴截面的夹角大于0度。利用本实用新型能够提高屏蔽体的抗拉性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 形成 装置 | ||
【主权项】:
一种飞点形成装置,包括辐射源和屏蔽体,屏蔽体为中空圆柱体,屏蔽体的侧壁上具有成对设置的螺旋槽,每对螺旋槽包括一个入射槽和一个出射槽,其特征在于,屏蔽体的侧壁上具有至少两对螺旋槽,其中相对于屏蔽体的横截面,每个螺旋槽具有预定斜率;所述至少两对螺旋槽中的第一入射槽与第二入射槽相邻,第一入射槽的首端高于第二入射槽的首端,第一入射槽的末端高于第二入射槽的末端,第一入射槽的末端与第二入射槽的首端相隔预定距离,第一入射槽的末端不高于第二入射槽的首端;并且,屏蔽体的第一轴截面与第一入射槽的末端相交,第二轴截面与第二入射槽的首端相交,第一轴截面与第二轴截面的夹角大于0度;所述至少两对螺旋槽中的各出射槽的位置对应于与其成对设置的入射槽的位置。
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