[实用新型]一种新型磁控溅射靶材有效

专利信息
申请号: 201420564210.9 申请日: 2014-09-28
公开(公告)号: CN204138753U 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 张庆丰;范晓鹏;李贵成;汪涛;胡尚智;张加友;刘占伟 申请(专利权)人: 山东淄博汉能光伏有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 代理人: 郭霞
地址: 255000 山东省淄博市高新区*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了一种新型磁控溅射靶材,包括小块靶材和冷却背板,多块所述小块靶材并排拼接后贴合安装于所述冷却背板上,位于所述冷却背板中部的所述小块靶材的厚度小于位于所述冷却背板两端的所述小块靶材的厚度,且由中间至两端厚度递增。本实用新型通过在靶材溅射强烈的两端位置放置较厚的小块靶材,而在溅射强度较弱的中间部分放置厚度较薄的小块靶材,避免溅射强烈区域的小块靶材过早消耗完毕,从而延长了整个靶材的使用寿命,提高了靶材利用率,能够从传统的20%提高到30%左右,增加了更换靶材的时间周期,减少了更换靶材次数,间接减少了劳动量,降低了材料成本和人力成本。
搜索关键词: 一种 新型 磁控溅射
【主权项】:
一种新型磁控溅射靶材,包括小块靶材和冷却背板,多块所述小块靶材并排拼接后贴合安装于所述冷却背板上,其特征在于:位于所述冷却背板中部的所述小块靶材的厚度小于位于所述冷却背板两端的所述小块靶材的厚度,且由中间至两端厚度递增。
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