[实用新型]发光装置、光源系统和投影系统有效
| 申请号： | 201420569079.5 | 申请日： | 2014-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN204256350U | 公开（公告）日： | 2015-04-08 |
| 发明（设计）人： | 杨佳翼;胡飞 | 申请（专利权）人： | 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;F21V9/10;F21V17/00 |
| 代理公司： | 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 | 代理人： | 王仲凯 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市南山区西丽*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种发光装置、光源系统及投影系统，包括：位于激发光的光路上且均匀化所述激发光的第一匀光部件；吸收均匀化后的所述激发光并产生受激光的荧光粉层；位于所述受激光的光路上且均匀化所述受激光的第二匀光部件；其中，所述荧光粉层位于所述第一匀光部件与第二匀光部件之间，且粘附于所述第一匀光部件和第二匀光部件相对的两个表面，从而减小了发光装置、光源系统及投影系统的体积，并且，由于荧光粉层不需要驱动装置进行驱动，因此，减少了器件，降低了成本，提高了投影的效率。此外，本实用新型还通过固定在荧光粉层两侧的第一匀光部件和第二匀光部件，提高了荧光粉层的散热，增加了荧光粉层的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 光源 系统 投影 | ||
【主权项】：
一种发光装置，其特征在于，包括：位于激发光的光路上且均匀化所述激发光的第一匀光部件；吸收均匀化后的所述激发光并产生受激光的荧光粉层；位于所述受激光的光路上且均匀化所述受激光的第二匀光部件；其中，所述荧光粉层位于所述第一匀光部件与第二匀光部件之间，且粘附于所述第一匀光部件和第二匀光部件相对的两个表面。
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