[实用新型]射流真空发生装置有效

专利信息
申请号: 201420571784.9 申请日: 2014-09-30
公开(公告)号: CN204253304U 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 邢忠远 申请(专利权)人: 邢忠远
主分类号: F04B23/14 分类号: F04B23/14
代理公司: 杭州赛科专利代理事务所 33230 代理人: 傅剑舟
地址: 310000 浙江省杭州市拱墅*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及一种低真空设备,具体地说是一种射流真空发生装置,包括开设出水口的水箱、射流器,所述水箱内安装潜水泵、射流器、反射管,所述潜水泵上连接水管,水管的另一端连接射流器的喷嘴,射流器的出口端连接反射管,所述射流器的吸入端连通吸气管的一端,所述吸气管的另一端连接安装在水箱外的吸入阀体,吸入阀体的下端开设吸入口,吸入阀体的上端安装真空表,潜水泵的电源线通过开设在水箱上的通孔延伸至水箱外,所述水箱上设有水箱盖,本实用新型设备结构科学,减小了装置的体积,使得装置移动方便,减少噪音。
搜索关键词: 射流 真空 发生 装置
【主权项】:
一种射流真空发生装置,包括开设出水口的水箱、射流器,其特征在于,所述水箱内安装潜水泵、射流器、反射管,所述潜水泵上连接水管,所述水管的另一端连接射流器的喷嘴,所述射流器的出口端连接反射管,所述射流器的吸入端连通吸气管的一端,所述吸气管的另一端连接安装在水箱外的吸入阀体,所述吸入阀体的下端开设吸入口,所述吸入阀体的上端安装真空表,所述潜水泵的电源线通过开设在水箱上的通孔延伸至水箱外,所述水箱上设有水箱盖。
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