[实用新型]一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置有效
| 申请号： | 201420584158.3 | 申请日： | 2014-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN204193799U | 公开（公告）日： | 2015-03-11 |
| 发明（设计）人： | 王平生;刘存兄;张贵英;孙洪超;肖才锦;倪邦发 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102413 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其包括：一夹持部，具体涉及一载膜夹，用以将所述潜径迹膜夹持并固定；一液体盛装部，具体涉及一蚀刻槽，用以盛装所述蚀刻液并固定所述的夹持部，对所述潜径迹膜进行蚀刻；还包括一超声波发生器，为所述蚀刻槽提供超声波，对所述潜径迹膜实现均匀蚀刻，还包括一紫外灯，对固定在所述载膜夹的所述潜径迹膜敏化，加快蚀刻速率。本实用新型采用载膜夹固定潜径迹薄膜，再将载膜夹插入蚀刻槽的固定插槽，从而使薄膜与蚀刻液充分接触，实现薄膜固定、均匀蚀刻，利用此蚀刻装置可以实现潜径迹膜的单面、双面蚀刻，该蚀刻装置制作简单，使用方便、灵活，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 大面积 高密度 径迹 薄膜 蚀刻 装置 | ||
【主权项】：
一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，其特征在于，包括： 一夹持部，用以将潜径迹膜夹持并固定，使所述潜径迹膜在蚀刻时稳定，蚀刻均匀； 一液体盛装部，用以盛装蚀刻液并固定所述的夹持部，对所述潜径迹膜进行蚀刻。
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