[实用新型]具有新型扩展电极结构的发光二极管有效

专利信息
申请号: 201420590729.4 申请日: 2014-10-14
公开(公告)号: CN204189820U 公开(公告)日: 2015-03-04
发明(设计)人: 白继锋;马祥柱;杨凯;陈亮;李俊承;陈宝;张银桥 申请(专利权)人: 扬州乾照光电有限公司
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32;H01L33/36
代理公司: 扬州市锦江专利事务所 32106 代理人: 江平
地址: 225009 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 具有新型扩展电极结构的发光二极管,属于光电子技术领域,在外延片上制作镜面反射层,键合衬底后,去除外延片上的基板、缓冲层和截止层,露出N-GaAs欧姆接触层,再制作图形化的N-GaAs欧姆接触层,本实用新型通过制作出图形的N-GaAs欧姆接触层,再利用电子束蒸镀和蚀刻工艺制作出同N-GaAs欧姆接触图形套合的扩展电极,再利用负胶剥离工艺制作出主电极,工艺简单,主电极的尺寸大于扩展电极尺寸,既保证了扩展电极层与N-GaAs欧姆接触层的充分结合,形成良好的欧姆接触,又对于图案化N-GaAs欧姆接触层起到了保护作用,提高了扩展电极与外延层的附着性和完整性,确保发光器件工作电压稳定。
搜索关键词: 具有 新型 扩展 电极 结构 发光二极管
【主权项】:
具有新型扩展电极结构的发光二极管,在具有背电极的衬底上依次设置有金属键合层、镜面反射层、外延层、扩展电极和主电极,外延层通过镜面反射层连接在金属键合层上;外延层包括P‑GaP电流扩展层、缓冲层、P‑AlGaInP限制层、MQW多量子阱有源层、N‑AlGaInP限制层、N‑AlGaInP电流扩展层、粗化层和N‑GaAs欧姆接触层;其特征在于所述N‑GaAs欧姆接触层为图形化的N‑GaAs欧姆接触层,扩展电极设置在图形化的N‑GaAs欧姆接触层上并与图形化的N‑GaAs欧姆接触层形成电学连接,在扩展电极上设置主电极,且扩展电极掩埋在主电极中,扩展电极尺寸小于主电极尺寸。
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