[实用新型]一种纳米图形制备系统及其磁场施加装置有效
| 申请号： | 201420603744.8 | 申请日： | 2014-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN204162408U | 公开（公告）日： | 2015-02-18 |
| 发明（设计）人： | 托拉夫·克里姆;简·海丝特;万蔡华;韩秀峰;周向前;孙晓玉 | 申请（专利权）人： | 北京汇德信科技有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B82Y40/00;G03F7/20;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;尚群 |
| 地址： | 100083 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种纳米图形制备系统及其磁场施加装置，该纳米图形制备系统，包括纳米图形制备装置、真空腔室、样品台和磁场施加装置，所述样品台安装在所述真空腔室内，所述纳米图形制备装置和所述磁场施加装置安装在所述真空腔室上，所述磁场施加装置相对于所述纳米图形制备系统的纳米图形制备装置设置，包括：支撑块，安装在所述真空腔室的内壁上；磁场施加机构，与所述支撑块连接，所述磁场施加机构设置在所述真空腔室内，并相对于所述纳米图形制备装置的极靴具有一工作位置和一收缩位置；控制机构，与所述磁场施加机构连接，所述控制机构安装在所述真空腔室的外壁上；以及导向机构，安装在所述支撑块上并与所述磁场施加机构连接。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 图形 制备 系统 及其 磁场 施加 装置 | ||
【主权项】：
一种用于纳米图形制备系统的磁场施加装置，安装在纳米图形制备系统的真空腔室上，并相对于所述纳米图形制备系统的纳米图形制备装置设置，其特征在于，包括：支撑块，安装在所述真空腔室的内壁上；磁场施加机构，与所述支撑块连接，所述磁场施加机构设置在所述真空腔室内，并相对于所述纳米图形制备装置的极靴具有一工作位置和一收缩位置；控制机构，与所述磁场施加机构连接，所述控制机构安装在所述真空腔室的外壁上；以及导向机构，安装在所述支撑块上并与所述磁场施加机构连接。
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