[实用新型]一种可调阴极的对靶磁控溅射系统有效
| 申请号： | 201420609556.6 | 申请日： | 2014-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN204237861U | 公开（公告）日： | 2015-04-01 |
| 发明（设计）人： | 吴文亮 | 申请（专利权）人： | 吴文亮 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 321400 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 针对溅射过程中，靶材的不均匀轰击的问题，本实用新型提供一种可调阴极的对靶磁控溅射系统，包括底部基体、底部磁钢、底部靶材、顶部基体、顶部磁钢、顶部靶材、可调电源，其中，底部磁钢安装在底部基体上，底部靶材安装在底部磁钢上，顶部磁钢安装在顶部基体上，顶部靶材安装在顶部磁钢上；底部靶材和顶部靶材相对；底部磁钢和顶部磁钢的磁极性相反；可调电源的两端分别与底部磁钢和顶部磁钢相连接。本实用新型在底部靶材和顶部靶材之间形成均匀的磁场，能够均匀的溅射靶材，当底部靶材消耗一定的程度之后，通过可调电源能够调节阴极，开始使用顶部靶材。本实用新型能够均匀的溅射靶材，大大提高靶材的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可调 阴极 磁控溅射 系统 | ||
【主权项】：
一种可调阴极的对靶磁控溅射系统，包括底部基体、底部磁钢、底部靶材、顶部基体、顶部磁钢、顶部靶材、可调电源，其特征在于：所述的底部磁钢安装在底部基体上，底部靶材安装在底部磁钢上，顶部磁钢安装在顶部基体上，顶部靶材安装在顶部磁钢上；所述的底部靶材和顶部靶材相对；所述的底部磁钢和顶部磁钢的磁极性相反；所述的可调电源的两端分别与底部磁钢和顶部磁钢相连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吴文亮，未经吴文亮许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201420609556.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种电泳用挂具
- 下一篇：在线连续感应加热炉炉内辊道传动机构
- 同类专利
- 专利分类
