[实用新型]一种保护石墨烯薄膜蚀刻和转移的装置有效
| 申请号： | 201420646221.1 | 申请日： | 2014-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN204155906U | 公开（公告）日： | 2015-02-11 |
| 发明（设计）人： | 钟达;史浩飞;崔华亭;李占成;谭其良 | 申请（专利权）人： | 重庆墨希科技有限公司;中国科学院重庆绿色智能技术研究院 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 杨立 |
| 地址： | 401329 重*** | 国省代码： | 重庆;85 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及石墨烯薄膜生产装置技术领域，尤其涉及一种保护石墨烯薄膜蚀刻和转移的装置，包括第一夹具和第二夹具，所述第一夹具为由第一夹具柱组成的方形框架结构，所述第二夹具为由四个第二夹具柱组成的方形框架结构，所述第一夹具的方形大小和所述第二夹具的方形大小相同，且所述第一夹具设置在所述第二夹具的上方，所述第一夹具和所述第二夹具通过活动卡扣连接，所述第一夹具和所述第二夹具之间设有夹具间隙。本实用新型的有益效果是：采用第一夹具和第二夹具组成的转移装置，在对石墨烯片进行刻蚀前对其进行夹持，不仅能方便对石墨烯片的转移，并且能对石墨烯片在刻蚀时进行保护，避免石墨烯片触及刻蚀液槽底部导致石墨烯薄膜的损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 保护 石墨 薄膜 蚀刻 转移 装置 | ||
【主权项】：
一种保护石墨烯薄膜蚀刻和转移的装置，其特征在于，包括第一夹具(1)和第二夹具(2)，所述第一夹具(1)为由第一夹具柱(6)组成的方形框架结构，所述第二夹具(2)为由四个第二夹具柱(3)组成的方形框架结构，所述第一夹具(1)的方形大小和所述第二夹具(2)的方形大小相同，且所述第一夹具(1)设置在所述第二夹具(2)的上方，所述第一夹具(1)和所述第二夹具(2)通过活动卡扣(4)连接，所述第一夹具(1)和所述第二夹具(2)之间设有夹具间隙(5)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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