[实用新型]一种具有曝光功能的涂胶显影机有效
申请号: | 201420652598.8 | 申请日: | 2014-11-05 |
公开(公告)号: | CN204155062U | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
发明(设计)人: | 蔡家豪;王兵;陈松;吕荣英;段伟 | 申请(专利权)人: | 安徽三安光电有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 241000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 一种具有曝光功能的涂胶显影机,集涂胶、曝光和显影功能于一体,至少包括涂胶单元、曝光单元、显影单元以及晶片承载装置,所述涂胶单元、曝光单元和显影单元通过具有固定、加热和旋转晶片功能的晶片承载装置作为载体,进行涂胶、曝光和显影的循环操作。所述具有曝光功能的涂胶显影机为一体机,提高了晶片生产的自动化程度,其可同时作业多片晶片,提高了晶片的生产效率。 | ||
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【主权项】:
一种具有曝光功能的涂胶显影机,至少包括涂胶单元、曝光单元、显影单元以及晶片承载装置,所述涂胶单元、曝光单元和显影单元通过具有固定、加热和旋转晶片功能的晶片承载装置作为载体,进行涂胶、曝光和显影的循环操作,实现集涂胶、曝光和显影功能于一体。
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