[实用新型]一种用于硅晶圆片薄膜制备的退火炉

摘要

本实用新型提供一种用于硅晶圆片薄膜制备的退火炉，主体为腔体，还包括配气装置，腔体包括炉门、石英腔体和石英托架，炉门位于石英腔体上，石英托架与炉门相连，且石英托架位于石英腔体内，石英托架上还设有石英板匀流板，石英板匀流板上均布若干孔洞，配气装置包括进气气路、排气气路和尾气处理气路，进气气路包括氩气气路、氮气气路、氧气气路、氢气气路和氯化氢气路。一种用于硅晶圆片薄膜制备的退火炉，石英匀流板装置，利用气体流动过程中的流量和气阻的分配关系使气氛在各处均匀分布；增加氢气气路作为高温退火时的气氛，在湿氧氧化的基础上可以做氢氧合成氧化方面的改进，改善硅片的质量。

主权项

一种用于硅晶圆片薄膜制备的退火炉，其特征在于：主体为腔体，还包括配气装置，所述腔体包括炉门、石英腔体和石英托架，所述炉门位于所述石英腔体上，所述石英托架与所述炉门相连，且所述石英托架位于所述石英腔体内，所述石英托架上还设有石英板匀流板，所述石英板匀流板上均布若干孔洞，所述配气装置包括进气气路、排气气路和尾气处理气路，所述进气气路与所述炉门相连，所述排气气路和所述尾气处理气路分别与所述石英腔体的出气端相连，所述进气气路包括氩气气路、氮气气路、氧气气路、氢气气路和氯化氢气路，所述氩气气路包括通过管路依次相连的氩气瓶、第一调压阀、第一过滤器和第一质量流量控制器，所述氮气气路包括通过管路依次相连的氮气瓶、第二调压阀、第二过滤器和第二质量流量控制器，所述氧气气路包括通过管路依次相连的氧气瓶、第三调压阀、第三过滤器和第三质量流量控制器，所述氢气气路包括通过管路依次相连的氢气瓶、第四调压阀、第四过滤器和第四质量流量控制器，所述氯化氢气路包括通过管路依次相连的氯化氢瓶、第五调压阀、第五过滤器和第五质量流量控制器，所述排气气路包括通过管路相连的第六调压阀和真空泵，所述第六调压阀与所述石英腔体的出气端相连。