[实用新型]一种微调刻蚀深度空间分布的系统有效
| 申请号： | 201420724635.1 | 申请日： | 2014-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN204407287U | 公开（公告）日： | 2015-06-17 |
| 发明（设计）人： | 吴丽翔;邱克强;付绍军 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明;贾玉忠 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种微调刻蚀深度空间分布的系统。所述系统包括运动控制系统和扫描装置；所述运动控制系统，包括上位机运动控制单元和运动控制箱。所述扫描装置，包括叶片扫描组件和束宽修正双滑门组件，其中，叶片扫描组件是一个两轴扫描运动机构，束宽修正双滑门组件是调节离子束束流宽度的双滑动门机构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微调 刻蚀 深度 空间 分布 系统 | ||
【主权项】：
一种微调刻蚀深度空间分布的系统，其特征在于：包括运动控制系统和扫描装置；所述运动控制系统，包括上位机运动控制单元和运动控制箱；所述扫描装置，包括叶片扫描组件和束宽修正双滑门组件，其中，叶片扫描组件是一个两轴扫描运动机构，束宽修正双滑门组件是调节离子束束流宽度的双滑动门机构。
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