[实用新型]一种微调刻蚀深度空间分布的系统有效
申请号: | 201420724635.1 | 申请日: | 2014-11-26 |
公开(公告)号: | CN204407287U | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
发明(设计)人: | 吴丽翔;邱克强;付绍军 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 杨学明;贾玉忠 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种微调刻蚀深度空间分布的系统。所述系统包括运动控制系统和扫描装置;所述运动控制系统,包括上位机运动控制单元和运动控制箱。所述扫描装置,包括叶片扫描组件和束宽修正双滑门组件,其中,叶片扫描组件是一个两轴扫描运动机构,束宽修正双滑门组件是调节离子束束流宽度的双滑动门机构。 | ||
搜索关键词: | 一种 微调 刻蚀 深度 空间 分布 系统 | ||
【主权项】:
一种微调刻蚀深度空间分布的系统,其特征在于:包括运动控制系统和扫描装置;所述运动控制系统,包括上位机运动控制单元和运动控制箱;所述扫描装置,包括叶片扫描组件和束宽修正双滑门组件,其中,叶片扫描组件是一个两轴扫描运动机构,束宽修正双滑门组件是调节离子束束流宽度的双滑动门机构。
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