[实用新型]一种等离子体增强化学气相沉积工艺设备

摘要

本实用新型公开了一种等离子体增强化学气相沉积工艺设备，包括：反应腔室，设置有进料口，且反应腔室处于设备的中心位置；外壳，部分包裹反应腔室，且外壳的顶部设有第一螺丝孔组，外壳的底部设有第二螺丝孔组；第一隔绝装置，通过第一螺丝孔组设置于外壳的底部；一第二隔绝装置，通过第二螺丝孔组设置于外壳的顶部；一压缩装置，连接于第一隔绝装置和第二隔绝装置；其中，第一隔绝装置还包括第一联动轴和第一阀门，第二隔绝装置还包括第二联动轴和第二阀门，第一联动轴和第二联动轴均通过压缩装置分别带动第一阀门和第二阀门，以关闭反应腔室的进料口。本实用新型装置可以有效的提高半导体制备工艺的效率，提高了设备在线的使用率。

主权项

一种等离子体增强化学气相沉积工艺设备，其特征在于，包括：一反应腔室，设置有进料口，且所述反应腔室处于设备的中心位置；一外壳，部分包裹所述反应腔室，且所述外壳的顶部设有第一螺丝孔组，所述外壳的底部设有第二螺丝孔组；一第一隔绝装置，通过所述第一螺丝孔组设置于所述外壳的底部；一第二隔绝装置，通过所述第二螺丝孔组设置于所述外壳的顶部；一压缩装置，连接于所述第一隔绝装置和第二隔绝装置；其中，所述第一隔绝装置还包括第一联动轴和第一阀门，所述第二隔绝装置还包括第二联动轴和第二阀门，所述第一联动轴和所述第二联动轴均通过所述压缩装置分别带动所述第一阀门和所述第二阀门，以关闭所述反应腔室的进料口。