[实用新型]一种具有高硬度和低摩擦系数的CrAlN/WS2涂层有效
申请号: | 201420754048.7 | 申请日: | 2014-12-05 |
公开(公告)号: | CN204431874U | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
发明(设计)人: | 刘野;王洪权 | 申请(专利权)人: | 大连维钛克科技股份有限公司 |
主分类号: | B32B33/00 | 分类号: | B32B33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 116113 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种具有高硬度和低摩擦系数的CrAlN/WS2涂层,包括纳米多层涂层,所述纳米多层涂层由多个CrAlN纳米层和WS2 纳米层构成,各CrAlN纳米层和WS2 纳米层通过多弧离子镀的方式交替溅射沉积在基体上形成纳米量级多层结构,所述纳米多层涂层的总厚度为2.0-4.5μm;每一所述CrAlN 纳米层的厚度为5.0nm;每一所述WS2纳米层的厚度为0.2~1.4nm。本实用新型有益效果:该具有高硬度和低摩擦系数的 CrAlN/WS2涂层可作为保护涂层,用于高温环境且要求高硬度、又具有高耐摩擦性能的服役场合。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 硬度 摩擦系数 craln ws2 涂层 | ||
【主权项】:
一种具有高硬度和低摩擦系数的CrAlN/WS2涂层,包括纳米多层涂层,其特征在于:所述纳米多层涂层由多个CrAlN纳米层和WS2 纳米层构成,各 CrAlN纳米层和WS2 纳米层通过多弧离子镀的方式交替溅射沉积在基体上形成纳米量级多层结构,所述基体为金属、硬质合金或陶瓷。
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