[实用新型]3390nm带通红外滤光敏感元件有效
申请号: | 201420757549.0 | 申请日: | 2014-12-07 |
公开(公告)号: | CN204374469U | 公开(公告)日: | 2015-06-03 |
发明(设计)人: | 吕晶;王继平;胡伟琴 | 申请(专利权)人: | 杭州麦乐克电子科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20 |
代理公司: | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人: | 周豪靖 |
地址: | 311188 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种3390nm带通红外滤光敏感元件,包括以蓝宝石为原材料的基板,以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层,且所述基板设于第一镀膜层与第二镀膜层之间。本实用新型所得到的一种3390nm带通红外滤光敏感元件,其中心波长3390±15nm,其在石化系统红外气体检测过程中,可大大的提高信噪比,提高测试精准度,适合于大范围的推广和使用。该滤光敏感元件的峰值透过率Tp≥75%,带宽=60±10nm,400~14000 nm(除通带外),Tavg<0.5%。 | ||
搜索关键词: | 3390 nm 通红 滤光 敏感 元件 | ||
【主权项】:
一种3390nm带通红外滤光敏感元件,包括以蓝宝石为原材料的基板(2),以Ge、SiO为第一镀膜层(1)和以Ge、SiO为第二镀膜层(3),且所述基板(2)设于第一镀膜层(1)与第二镀膜层(3)之间,其特征是所述第一镀膜层(1)由内向外依次排列包含有105nm厚度的Ge层、286nm厚度的SiO层、111nm厚度的Ge层、258nm厚度的SiO层、97nm厚度的Ge层、275nm厚度的SiO层、130nm厚度的Ge层、214nm厚度的SiO层、88nm厚度的Ge层、481nm厚度的SiO层、400nm厚度的Ge层、339nm厚度的SiO层、384nm厚度的Ge层、596nm厚度的SiO层、386nm厚度的Ge层、850nm厚度的SiO层、349nm厚度的Ge层、794nm厚度的SiO层、380nm厚度的Ge层、1022nm厚度的SiO层、494nm厚度的Ge层、1084nm厚度的SiO层、432nm厚度的Ge层、932nm厚度的SiO层、465nm厚度的Ge层、524nm厚度的SiO层;所述的第二镀膜层(3)由内向外依次排列包含有101nm厚度的Ge层、476nm厚度的SiO层、201nm厚度的Ge层、951nm厚度的SiO层、201nm厚度的Ge层、476nm厚度的SiO层、201nm厚度的Ge层、476nm厚度的SiO层、201nm厚度的Ge层、476nm厚度的SiO层、201nm厚度的Ge层、951nm厚度的SiO层、201nm厚度的Ge层、386nm厚度的SiO层、179nm厚度的Ge层、130nm厚度的SiO层。
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