[实用新型]一种真空镀膜系统的样品室结构有效

专利信息
申请号: 201420804646.0 申请日: 2014-12-17
公开(公告)号: CN204325478U 公开(公告)日: 2015-05-13
发明(设计)人: 闫鹏;卢松松;张震 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/50
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 赵妍
地址: 250061 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型涉及一种真空镀膜系统的样品室结构,包括:真空腔,该真空腔的顶部固定连接有基准板;所述基准板上均布有若干个定位孔;安装于所述基准板下表面的真空纳米定位平台,真空纳米定位平台通过基准板将热量传递给真空腔的腔壁;所述真空纳米定位平台上安装有基片;真空纳米定位平台的下方设有掩膜支架,掩膜支架与基准板固定连接,且掩膜支架具有掩膜安装孔;所述真空腔的侧面设有激光尺光路口和多个功能接口;该真空腔还具有腔体门。本实用新型通过设计全新的样品室结构,实现了特定形状的镀膜沉积。
搜索关键词: 一种 真空镀膜 系统 样品 结构
【主权项】:
一种真空镀膜系统的样品室结构,其特征在于,包括:真空腔,该真空腔的顶部固定连接有基准板;所述基准板上均布有若干个定位孔;安装于所述基准板下表面的真空纳米定位平台,真空纳米定位平台通过基准板将热量传递给真空腔的腔壁;所述真空纳米定位平台上安装有基片;所述真空纳米定位平台的下方设有掩膜支架,掩膜支架与基准板固定连接,且掩膜支架具有掩膜安装孔;所述真空腔的侧面设有激光尺光路口和多个功能接口;该真空腔还具有腔体门。
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