[实用新型]纳米成像系统

摘要

本实用新型公开了一种纳米成像系统，该纳米成像系统包括：X射线光源；毛细管X光透镜，其入口焦距处设置X射线光源，用于收集并会聚X射线光源发出的X射线束，毛细管X光透镜的出口焦距处形成微焦斑；弯晶聚焦器，其入口焦斑与毛细管X光透镜的微焦斑位置重合形成共聚焦结构，并在出口焦斑形成单色微焦斑；弯晶聚焦器的出口焦斑处放置有样品；放大器，设置于样品之后的光路上，用于会聚并放大样品的成像信号；探测器，设置在放大器之后，用于探测并收集样品的成像信号。因此，实施本实用新型能够实现高效纳米成像的同时降低设备成本，并提升设备的功能和寿命。

主权项

一种纳米成像系统，其特征在于，包括：X射线光源(1)；毛细管X光透镜(3)，其入口焦距处设置所述X射线光源(1)，用于收集并会聚所述X射线光源(1)发出的X射线束(2)，所述毛细管X光透镜(3)的出口焦距处形成微焦斑(4)；弯晶聚焦器(6)，其入口焦斑与所述毛细管X光透镜(3)的微焦斑(4)位置重合形成共聚焦结构，并在出口焦斑处形成单色微焦斑(7)；所述弯晶聚焦器(6)的出口焦斑处放置有样品；所述弯晶聚焦器(6)的入口端或出口端处配置有调节器(5)，用于挡住入射或出射于所述弯晶聚焦器(6)的中间部分X射线；放大器(8)，设置于所述样品之后的光路上，用于会聚并放大所述样品的成像信号；探测器(9)，设置在所述放大器(8)之后，用于探测并收集所述样品的成像信号。