[实用新型]磁控溅射装置

摘要

本实用新型涉及一种磁控溅射装置，包括：镀膜辊及镀膜室，镀膜室内设有多块隔板，以形成多个镀膜腔，镀膜腔朝向镀膜辊的腔壁为镀板，镀板上设有镀膜孔；镀膜腔内设有阴极靶、通气管道及护罩，阴极靶与镀膜辊正对设置，通气管道位于阴极靶与隔板之间，且通气管道沿镀膜辊的中心轴延伸，通气管道靠近阴极靶的管壁为管板，护罩罩设于通气管道上，且在镀膜辊的中心轴方向上，护罩的长度大于通气管道的长度，护罩位于通气管道两端之外的部分为延伸部，护罩靠近阴极靶的罩壁为罩板，罩板与管板之间形成气流通道，管板上设有出气孔，罩板上设有多个散气孔，部分散气孔位于两个延伸部上。上述磁控溅射装置均有气体分布均匀的特点。

主权项

一种磁控溅射装置，其特征在于，包括：用于安装柔性基材的镀膜辊；以及环绕所述镀膜辊的镀膜室，所述镀膜室内设有多块隔板，所述多块隔板将所述镀膜室划分为多个镀膜腔，每一镀膜腔朝向所述镀膜辊的腔壁为镀板，所述镀板上设有镀膜孔；其中，每一镀膜腔内设有阴极靶、通气管道及护罩，所述阴极靶与所述镀膜辊正对设置，且所述阴极靶沿所述镀膜辊的中心轴延伸，所述通气管道位于所述阴极靶与一隔板之间，且所述通气管道沿所述镀膜辊的中心轴延伸，所述通气管道靠近所述阴极靶的管壁为管板，所述护罩罩设于所述通气管道上，且在所述镀膜辊的中心轴方向上，所述护罩的长度大于所述通气管道的长度，所述护罩位于所述通气管道两端之外的部分为延伸部，所述护罩靠近所述阴极靶的罩壁为罩板，所述罩板与所述管板之间形成气流通道，所述管板上设有出气孔，以使所述通气管道与所述气流通道连通，所述罩板上设有多个散气孔，部分散气孔位于两个所述延伸部上。