[实用新型]一种气体样品刻度标准源有效
| 申请号： | 201420851112.3 | 申请日： | 2014-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN204347267U | 公开（公告）日： | 2015-05-20 |
| 发明（设计）人： | 王世联;李奇;常印忠;樊元庆;贾怀茂;刘蜀疆;赵允刚 | 申请（专利权）人： | 北京放射性核素实验室 |
| 主分类号： | G01T7/02 | 分类号： | G01T7/02;G01T1/178 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 杨亚婷 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种气体样品刻度标准源，包括盒体、上盖、标准溶液及刻度源基质，其特殊之处在于：所述盒体及上盖构成一个密封腔体，所述密封腔体的几何尺寸及材料与待测气体样品源盒相同，所述标准溶液和刻度源基质位于盒体内；所述刻度源基质为可发性聚苯乙烯颗粒。本实用新型利用可发性聚苯乙烯颗粒制备的气体样品刻度标准源，密度小于0.02g/cm3，解决了采用液体源刻度γ射线效率时自吸收的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 气体 样品 刻度 标准 | ||
【主权项】：
一种气体样品刻度标准源，包括盒体、上盖、标准溶液及刻度源基质，其特征在于：所述盒体及上盖构成一个密封腔体，所述密封腔体的几何尺寸及材料与待测气体样品源盒相同，所述标准溶液和刻度源基质位于盒体内；所述刻度源基质为可发性聚苯乙烯颗粒。
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