[实用新型]一种硅片清洗装置有效
申请号: | 201420870668.7 | 申请日: | 2014-12-31 |
公开(公告)号: | CN204523685U | 公开(公告)日: | 2015-08-05 |
发明(设计)人: | 赵曾男;李伟;刘效岩 | 申请(专利权)人: | 北京七星华创电子股份有限公司 |
主分类号: | B08B7/04 | 分类号: | B08B7/04;B08B3/02;B08B5/02;B08B13/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 郝瑞刚 |
地址: | 100015 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体集成电路器件技术领域,公开了一种硅片清洗装置包括:喷液管、喷气管、驱动装置及旋转体;待清洗的硅片固定设置于所述旋转体上,所述驱动装置驱动所述旋转体沿其轴向转动,所述喷液管的一端设置有喷液口,所述喷液口对应于所述旋转体设置,所述驱动装置驱动所述喷液管沿所述旋转体的轴向转动,所述喷气管的一端对应于所述喷液口设置有第一出气孔。本实用新型提供的硅片清洗装置对应喷液口引入保护气体,使药液在工艺过程中尽可能少的接触空气,提升了清洗效果。具有结构简单及稳定性强广的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅片 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种硅片清洗装置,其特征在于,包括:喷液管(5)、喷气管(6)、驱动装置及旋转体(2);待清洗的硅片固定设置于所述旋转体(2)上,所述驱动装置驱动所述旋转体(2)沿其轴向转动,所述喷液管(5)的一端设置有喷液口(10),所述喷液口(10)对应于所述旋转体(2)设置,所述驱动装置驱动所述喷液管(5)沿所述旋转体(2)的轴向转动,所述喷气管(6)的一端对应于所述喷液口(10)设置有第一出气孔。
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