[实用新型]一种聚集离子束的真空系统有效

专利信息
申请号: 201420872273.0 申请日: 2014-12-27
公开(公告)号: CN204348679U 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 尚跃;余夕霞 申请(专利权)人: 上海聚跃电子科技有限公司
主分类号: H01J41/12 分类号: H01J41/12
代理公司: 代理人:
地址: 200233 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种聚集离子束的真空系统,所述真空系统包括真空泵、分子泵、样品室、气缸阀和排气阀,所述真空泵通过管道分别与分子泵、样品室连接,所述样品室安装在分子泵的顶部,所述气缸阀位于分子泵与样品室之间,所述气缸阀与分子泵密封连接,所述排气阀安装在真空泵与样品室之间的管道上。本实用新型提供的聚集离子束的真空系统的工作效率高、能完全避免分子泵损坏。
搜索关键词: 一种 聚集 离子束 真空 系统
【主权项】:
一种聚集离子束的真空系统,其特征在于,所述真空系统包括真空泵、分子泵、样品室、气缸阀和排气阀,所述真空泵通过管道分别与分子泵、样品室连接,所述样品室安装在分子泵的顶部,所述气缸阀位于分子泵与样品室之间,所述气缸阀与分子泵密封连接,所述排气阀安装在真空泵与样品室之间的管道上。
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