[发明专利]使用沟槽结构制备图案的方法及其制备的图案,以及使用该制备方法制备太阳能电池的方法及其制备的太阳能电池有效

专利信息
申请号: 201480000866.0 申请日: 2014-04-15
公开(公告)号: CN104247050B 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 具勇成;金俊衡 申请(专利权)人: LG化学株式会社
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 代理人: 李静,黄丽娟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开提供一种制备图案的方法,包括使用喷墨法在基板上形成沟槽结构;用填料填充沟槽结构的内部;并去除所述沟槽结构,以及使用该方法制备的图案,本公开还提供使用所述制备图案的方法制备太阳能电池的方法,以及使用该方法制备的太阳能电池。
搜索关键词: 使用 沟槽 结构 制备 图案 方法 及其 以及 太阳能电池
【主权项】:
一种制备图案的方法,包括:在基板上形成包括壁表面的沟槽结构;用填料填充所述沟槽结构的内部;以及去除所述沟槽结构,其中,使用热熔油墨通过喷墨法形成所述沟槽结构,所述沟槽结构由多个用于形成沟槽结构的印刷图案构成,所述印刷图案重叠并形成于另一印刷图案上,并且其中,所述沟槽结构的内部高度与内部宽度的比例为6:1至1:10。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG化学株式会社,未经LG化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201480000866.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top