[发明专利]曝光装置

摘要

本发明提供一种曝光装置，其具备：基板保持载物台(110)，可保持基板(W)并往复移动及升降；曝光载物台(320)，保持掩模板(310)，使图案面(M2)与基板(W)的感光面(M1)相面对；掩模除尘部(120)，与基板保持载物台(110)一起前进，通过推压掩模板(310)的图案面(M2)的方向的力(第1方向的力)而与图案面(M2)的表面接触，一边旋转一边除尘；及基板除尘部(210)，通过基板保持载物台(110)前进，而利用推压基板(W)的感光面(M1)的方向的力(第2方向的力)与基板(W)的感光面(M1)接触，一边旋转一边除尘。根据本发明的曝光装置，能够简化用于对基板的感光面及掩模的表面进行除尘的机构整体，并且能够使大量的基板高速曝光。

主权项

一种曝光装置，是使基板的感光面和掩模板的图案面相面对并使所述基板的感光面曝光的曝光装置，其特征在于，具有：基板保持载物台，在保持所述基板的状态下，可在由x轴及y轴形成的xy平面上沿x轴往复移动，并且，可沿与xy平面正交的z轴升降；曝光载物台，将所述掩模板以向该掩模板的厚度方向突出的状态进行保持，使所述基板保持载物台沿x轴朝向所述掩模板的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧，使推压所述掩模板的图案面的方向为第1方向，使推压所述基板的感光面的方向为第2方向时，具备：掩模除尘部，安装在从所述基板保持载物台的前方侧端部向前方侧突出的突出部上，通过与所述基板保持载物台一起向前方侧前进而在所述第1方向的力作用的状态下对所述掩模板的图案面进行除尘；基板除尘部，安装在基板除尘部支撑板上，该基板除尘部支撑板配置于比所述基板保持载物台处于初始位置时的该基板保持载物台更靠前方侧，并且比所述曝光载物台更靠后方侧的规定位置，通过所述基板保持载物台从所述初始位置向前方侧前进而在所述第2方向的力作用的状态下对所述基板的感光面进行除尘；基板保持载物台驱动机构部，用于使所述基板保持载物台能够沿x轴往复移动并能够沿z轴升降；及基板保持载物台控制装置，通过控制所述基板保持载物台驱动机构部而控制所述基板保持载物台的往复移动及升降。