[发明专利]电极组件的制造方法在审
| 申请号： | 201480002517.2 | 申请日： | 2014-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN104662724A | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | 朴志元;刘承宰;高明勋;潘镇浩;李香穆 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | H01M10/04 | 分类号： | H01M10/04;H01M10/058;H01M10/0585;H01M2/14 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 金龙河;穆德骏 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明的电极组件的制造方法包括：第一步骤，制造具有使相同数量的电极和隔膜交替地层叠而成的结构的一种基本单体或具有使相同数量的电极和隔膜交替地层叠而成的结构的两种以上的基本单体；以及第二步骤，反复层叠一种基本单体或者按指定的顺序层叠两种以上的基本单体，来制造单体堆叠部。在此，隔膜的末端不与相邻的隔膜的末端接合。并且，一种基本单体具有使第一电极、第一隔膜、第二电极及第二隔膜依次层叠而成的四层结构或使四层结构反复层叠而成的结构，并且，若将两种以上的基本单体按指定的顺序每次各层叠一个，则形成四层结构或使四层结构反复层叠而成的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 组件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种电极组件的制造方法，其特征在于，包括：第一步骤，制造具有使相同数量的电极和隔膜交替地层叠而成的结构的一种基本单体或具有使相同数量的电极和隔膜交替地层叠而成的结构的两种以上的基本单体；以及第二步骤，反复层叠所述一种基本单体或者按指定的顺序层叠所述两种以上的基本单体，来制造单体堆叠部，所述隔膜的末端不与相邻的隔膜的末端接合，所述一种基本单体具有使第一电极、第一隔膜、第二电极及第二隔膜依次层叠而成的四层结构或使所述四层结构反复层叠而成的结构，若将所述两种以上的基本单体按指定的顺序每次各层叠一个，则形成所述四层结构或使所述四层结构反复层叠而成的结构。
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