[发明专利]可变容量的多段填充分离柱

摘要

本发明公开了一种工业填充柱，所述工业填充柱用于通过液体吸收剂接触来进行气体流处理以去除组分，所述工业填充柱包括a.多个填充管状构件(360A，360B，360C，360D)，所述管状构件具有以竖直平行阵列对齐而形成第一管束的端部；b.上部贫吸收液入口(330A、330B、330C、313D)和下部富吸收液出口(341A、341B、341C、341D)；c.未加工进料气体入口(350A、350B、350C、350D)，所述未加工进料气体入口定位在填充材料下方，并且经由控制阀(310A、310B、310C、310D)连接到未加工进料气体歧管，以用于选择性地允许进料气体(351)进入所述多个管状构件中的一个或多个；d.上部已处理气体出口(314A、314B、314C、314D)，所述已处理气体出口经由带有阀的导管连接到其它管状构件中的一个或多个的(i)已处理气体收集歧管(328)和(ii)未加工进料气体入口，并且所述设备装配有适当的系统，使得离开管状构件的已处理气体流的所需部分为了进行进一步处理而能够通到第一管束中的其它管状构件。

主权项

一种工业填充柱设备，所述设备构造和设定尺寸以用于处理未加工气体进料流，以通过与用于不需要组分的液体吸收剂相接触而去除不需要组分的至少一部分，所述设备包括：a.多个管状构件，所述多个管状构件具有上端部和下端部，所述多个管状构件以竖直平行阵列对齐以形成第一管束，所述多个管状构件中的一个管状构件构造成最后下游构件，b.每个管状构件在其上端部和下端部之间具有填充段，所述填充段包含填充材料，c.所述管状构件中的每一个具有贫吸收液入口和富吸收液出口，所述贫吸收液入口定位在所述填充段的上方，所述富吸收液出口定位在所述填充段的下方，d.所述管状构件中的每一个具有未加工进料气体入口和已处理气体出口，所述未加工进料气体入口定位在所述填充段下方，所述已处理气体出口位于所述填充段上方、在所述管状构件的顶部处，e.所述未加工进料气体入口中的每一个经由控制阀连接到未加工进料气体歧管，用于选择性地允许所述未加工进料气体进入到所述多个管状构件中的一个或多个，f.所述已处理气体出口中的每一个经由带有阀的导管分别连接到所述第一管束中的其它管状构件中的一个或多个的(i)已处理气体收集歧管，和(ii)所述未加工进料气体入口，由此，离开除了最后下游构件之外的管状构件的已处理气体流的全部或者一部分为了进行进一步处理而可选地通到所述第一管束中的其它管状构件中的至少一个。