[发明专利]用于激光光谱的对准系统有效

专利信息
申请号: 201480003887.8 申请日: 2014-06-19
公开(公告)号: CN104884935B 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 彼得·沙辛格 申请(专利权)人: 罗斯蒙特分析公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/39;G01J3/28
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汪洋
地址: 美国德*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供了一种用于激光光谱系统(100)中的光学装置(212)的可调节座架(300)。可调节座架(300)包括被构造成用于安装到过程和反射器座架(230)的主体(232),该座架具有被构造成用于安装光学装置(212)的特征。主体(232)和反射器座架(230)之间的界面(234)允许主体(232)和反射器座架(230)之间的相对运动。至少一个对准装置(220)被构造成用于接合反射器座架(230)与主体(232),以相对于主体(232)固定反射器座架(230)的位置。光学装置(212)独立于对准装置(220)而被可移除地安装到反射器座架(230),并且被密封到反射器座架(230)。
搜索关键词: 用于 激光 光谱 对准 系统
【主权项】:
1.一种用于激光光谱系统中的光学装置的可调节座架,所述可调节座架包括:主体,所述主体被构造成用于安装到包含待检测的流体的工艺过程中,所述主体具有球形表面并且包括面对过程流体的第一侧和与第一侧相对的第二侧;反射器座架,所述反射器座架安装至所述主体的第二侧,所述反射器座架具有球形表面,反射器座架的球形表面与所述主体的球形表面耦接以在主体和反射器座架之间限定球形界面,所述球形界面允许主体和反射器座架之间的相对运动;对准装置,至少一个所述对准装置被构造成用于接合反射器座架与主体,以相对于主体控制反射器座架的位置;光学装置,所述光学装置独立于对准装置而可移除地安装到反射器座架,所述光学装置被密封到反射器座架并且设置成接触待检测的过程流体,其中对准装置配置成在光学装置被安装至反射器座架时引起光学装置保持对准位置;和盖,所述盖被定位邻近所述光学装置并且被构造成用于将所述光学装置保持在反射器座架内。
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