[发明专利]用于分光光度数据的统计测量控制的系统和方法有效
申请号: | 201480004463.3 | 申请日: | 2014-01-08 |
公开(公告)号: | CN105899940B | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | A·M·诺里斯 | 申请(专利权)人: | PPG工业俄亥俄公司 |
主分类号: | G01N21/84 | 分类号: | G01N21/84;G01N21/88;G01N21/25;G01J3/50;G06F17/18 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 申发振 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种计算机实现方法。该方法包括使用处理器从其上具有目标涂层的被涂覆的表面获得光谱反射率数据(10);并且使用处理器确定(18)所述数据是否包括任何异常数据点(20)。该方法还包括使用处理器移除(22)所述异常数据点中的至少一个,以产生最终的光谱反射率数据(32);以及使用处理器,至少部分基于所述最终的光谱反射率数据,计算(34)所述目标涂层的特性。 | ||
搜索关键词: | 用于 分光 光度 数据 统计 测量 控制 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种计算机实现的方法,包括:从涂层分析设备获得来自其上具有目标涂层的被涂覆的表面的光谱反射率数据的多个测量结果;使用处理器,对所述光谱反射率数据的多个测量结果执行统计异常值检验,其中所述统计异常值检验包括:计算所述光谱反射率数据的多个测量结果在每个测量结果内的每个相应的角度和波长的组合处的统计分析,确定与针对每个测量结果的每个角度和波长的组合处的光谱反射率数据相关联的潜在统计异常值的总数,和当针对特定测量结果的潜在统计异常值的总数超过公差时,通过排除来自所述特定测量结果的异常值数据,产生最终的光谱反射率数据;使用处理器,在所述最终的光谱反射率数据内移除落在预定的可接受公差范围之外的所述光谱反射率数据的多个测量结果中的至少一部分;以及使用处理器,至少部分基于所述最终的光谱反射率数据,计算所述目标涂层的特性。
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