[发明专利]包括原位校准装置的pH值测量设备有效
| 申请号： | 201480005920.0 | 申请日： | 2014-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN104937402B | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | Y·德库隆;C·伯里特;C·勒穆瓦纳 | 申请（专利权）人： | 威立雅水务解决方案与技术支持公司 |
| 主分类号： | G01N27/30 | 分类号： | G01N27/30;G01N27/414;G01N27/416;G01N27/42 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 郭思宇 |
| 地址： | 法国圣*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于测量流出物的pH的设备，所述设备包括用于测量要与所述流出物接触的代表所述流出物的pH的信息的装置。根据本发明，这种设备还包括用于修改所述测量装置附近的所述流出物的pH值的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 流出物 测量 测量装置 原位校准 | ||
【主权项】：
1.一种用于测量流出物E的pH的测量设备，所述测量设备包括要与所述流出物E接触的用于测量代表所述流出物E的pH的信息的测量装置和用于修改所述测量装置附近的所述流出物E的pH值的修改装置，所述测量装置包括ISFET型晶体管，所述ISFET型晶体管具有源极(21)、漏极(22)和具有对H+离子敏感的表面的栅极(24)，其特征在于，修改pH值的所述修改装置包括阳极(27)和阴极(28)以及用于在所述阳极(27)与所述阴极(28)之间产生电流的第一装置(32)，所述测量设备包括可渗透H+离子的膜(29)，所述膜(29)具有覆盖并接触所述阳极(27)和所述栅极(24)的内表面，以及外表面，所述阴极(28)和所述膜(29)的所述外表面被置于与所述流出物E相接触，所述测量设备包括用于校准所述测量设备的校准装置，所述校准装置被配置为用于在由所述修改装置修改所述膜(29)内的所述pH值为至少一个已知值pH1之后校准所述测量设备。
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